HIPiMS 技術(shù)制備的薄膜具有哪些獨(dú)特的性能？

HIPiMS技術(shù)制備的薄膜具有以下獨(dú)特性能：HIPiMS技術(shù)能產(chǎn)生高密度的等離子體，使濺射出來的粒子具有較高的能量和活性，粒子在沉積到基底上時(shí)能夠更緊密地堆積，形成致密度很高的薄膜，可有效減少薄膜中的孔隙和缺陷，提高薄膜的阻隔性能，在包裝材料領(lǐng)域能更好地阻擋氧氣、水汽等的滲透，延長包裝內(nèi)物品的保質(zhì)期。該技術(shù)產(chǎn)生的等離子體能夠?qū)妆砻孢M(jìn)行清洗和活化，增強(qiáng)薄膜與基底之間的結(jié)合力，使薄膜牢固地附著在基底上，對于一些對附著力要求較高的應(yīng)用場景非常重要，如刀具涂層，能確保薄膜在高速切削等惡劣工況下依然保持良好的附著狀態(tài)，不易脫落。

HIPiMS制備的薄膜通常具有較高的硬度和強(qiáng)度，高強(qiáng)度的離子轟擊效應(yīng)可以使薄膜的晶粒細(xì)化，增加薄膜的結(jié)晶度，從而提高其硬度和強(qiáng)度，在制備高熵合金氮化物薄膜時(shí)，硬度可達(dá)到超硬水平，具有優(yōu)異的耐磨性能，可應(yīng)用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)抗沖刷涂層和切削刀具涂層等領(lǐng)域。在HIPiMS技術(shù)的作用下，薄膜的微觀結(jié)構(gòu)可以得到準(zhǔn)確調(diào)控，可以形成從無定形致密的非晶態(tài)到納米晶態(tài)、再到柱狀晶的連續(xù)變化結(jié)構(gòu)，這種獨(dú)特的微觀結(jié)構(gòu)能夠賦予薄膜特殊的物理和化學(xué)性能，滿足不同應(yīng)用場景的需求。HIPiMS技術(shù)產(chǎn)生的等離子體分布較為均勻，使得薄膜在大面積沉積時(shí)也能保持良好的均勻性，對于大規(guī)模生產(chǎn)和大面積應(yīng)用具有重要意義，如在太陽能電池板、顯示屏等領(lǐng)域，能夠保證薄膜的性能一致性。

由于薄膜的致密度高、結(jié)晶度好等特點(diǎn)，使其在高溫環(huán)境下依然能夠保持較好的穩(wěn)定性，不易發(fā)生結(jié)構(gòu)變化和性能退化，適用于一些高溫工作環(huán)境的應(yīng)用場景。