真空鍍膜的工藝流程是什么

真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜是一種在材料表面形成薄膜的技術(shù)，主要流程包括以下幾個關(guān)鍵步驟。

一、鍍前處理

清洗

首先要對基底材料進行清洗。這是因為基底表面的任何雜質(zhì)，如油污、灰塵、氧化物等，都會影響鍍膜的質(zhì)量。例如，在光學鏡片鍍膜時，如果鏡片表面有油污，會導致鍍膜的附著力下降，出現(xiàn)膜層脫落的現(xiàn)象。清洗方法包括使用有機溶劑浸泡，如丙酮或乙醇，去除油污，然后用去離子水沖洗，以去除殘留的溶劑和其他水溶性雜質(zhì)。

烘干

清洗后的基底材料需要進行烘干處理，一般是在真空干燥箱或者在潔凈的環(huán)境中自然晾干。確保基底完全干燥是很重要的，因為水分的存在在真空環(huán)境下可能會影響鍍膜的純度和均勻性。

二、裝爐與抽真空

裝爐

將經(jīng)過處理的基底材料放置在真空鍍膜設備的合適位置，如蒸發(fā)源和基底的相對位置要根據(jù)鍍膜材料的特性和鍍膜要求進行調(diào)整。對于大面積的基底鍍膜，要保證基底在蒸發(fā)源的有效覆蓋范圍內(nèi)，以實現(xiàn)均勻鍍膜。

抽真空

關(guān)閉真空室后，開啟真空泵，將真空室內(nèi)的氣壓降低到合適的真空度。一般來說，根據(jù)不同的鍍膜工藝，真空度要求在10?3-10??Pa之間。這個過程是為了排除空氣和其他雜質(zhì)氣體，因為在高真空環(huán)境下，鍍膜材料的蒸發(fā)和沉積過程可以更純凈、更均勻地進行。

三、鍍膜過程

蒸發(fā)源加熱

根據(jù)鍍膜材料的性質(zhì)，選擇合適的蒸發(fā)源，如電阻蒸發(fā)源、電子束蒸發(fā)源等。以電阻蒸發(fā)源為例，當電流通過蒸發(fā)源材料時，會產(chǎn)生熱量，使鍍膜材料（如金屬鋁）逐漸熔化并蒸發(fā)。蒸發(fā)的鍍膜材料原子或分子會在真空環(huán)境中以直線運動的方式向基底材料表面移動。

沉積鍍膜

蒸發(fā)的材料在基底表面沉積，形成薄膜。沉積過程中，要控制好蒸發(fā)源的功率、鍍膜時間等參數(shù)，以控制膜層的厚度和質(zhì)量。例如，在制備太陽能電池板的減反射膜時，膜層厚度的控制對于提高電池板的光電轉(zhuǎn)換效率至關(guān)重要。

四、鍍后處理

冷卻

鍍膜完成后，讓基底材料在真空室內(nèi)自然冷卻或者通過適當?shù)睦鋮s裝置進行冷卻。這是為了防止膜層在高溫下發(fā)生變形或者與基底材料產(chǎn)生熱應力而導致膜層開裂。

質(zhì)檢

對鍍膜后的產(chǎn)品進行質(zhì)量檢查，包括檢查膜層的厚度、均勻度、附著力、光學性能等。常用的檢測方法有光學顯微鏡觀察、橢圓偏振儀測量膜厚、劃痕試驗檢測附著力等。只有通過質(zhì)量檢查的產(chǎn)品才能進入下一個生產(chǎn)環(huán)節(jié)或者交付使用。