真空鍍膜的特點(diǎn)

真空鍍膜技術(shù)與濕法鍍膜技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn):

(1)膜材和基片材料選擇廣泛，膜厚可控制，可制備多種功能不同的功能膜。

(2)薄膜是在真空條件下制備的，環(huán)境干凈，薄膜不易被污染，因此可以獲得密度好、純度高、涂層均勻的薄膜。

(3)涂膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，涂膜牢固。

(4)涂層干燥后不會(huì)產(chǎn)生廢液，也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。

真空鍍膜技術(shù)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等方法。除化學(xué)氣相沉積外，其他方法都有以下共同特點(diǎn):

(1)各種鍍膜技術(shù)都需要特定的真空環(huán)境，以保證薄膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成的蒸汽分子的運(yùn)動(dòng)，不受大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不利影響。

(2)各種鍍膜工藝都需要有蒸發(fā)源或目標(biāo)，以使薄膜材料蒸發(fā)成氣體。由于對(duì)來源或目標(biāo)的不斷改進(jìn)，電影制作材料的選擇范圍大大擴(kuò)大。無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷還是有機(jī)材料，各種金屬和電介質(zhì)薄膜都可以蒸制，還可以不同材料同時(shí)蒸制得到多層薄膜。

(3)蒸發(fā)或?yàn)R射制膜材料，在與待鍍工件形成薄膜的過程中，可以更準(zhǔn)確地測(cè)量和控制薄膜厚度，從而保證薄膜厚度的均勻性。

(4)每片膜都可以通過微調(diào)閥控制涂層腔內(nèi)殘留氣體的組成和質(zhì)量分?jǐn)?shù)，從而防止材料的氧化蒸發(fā)，將氧氣的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到較低，還可以充入惰性氣體，這是濕式涂層無法實(shí)現(xiàn)的。

(5)由于涂裝設(shè)備的不斷改進(jìn)，涂裝過程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)，從而大大提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，并在生產(chǎn)過程中對(duì)環(huán)境造成污染。

(6)由于薄膜是在真空條件下制備的，薄膜純度高，致密性好，表面光亮，無需再加工，使薄膜的機(jī)械性能和化學(xué)性能優(yōu)于電鍍膜和化學(xué)膜。[２]