真空鍍膜的方法有什么？

(1)真空蒸發(fā):將需要涂膜的基材清洗干凈，放入涂膜室。膜材料抽真空后加熱至高溫，使水蒸氣達(dá)到13.3Pa左右，水蒸氣分子飛到基板表面凝結(jié)成膜。

(2)陰極濺射電鍍:將需要鍍膜的基體放在陰極對面，進(jìn)入惰性氣體如氬氣)需要到室內(nèi)，保持壓力在1.33 ~ 13.3 Pa左右，然后將陰極接在2000 v直流電源上，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬氣離子撞擊陰極，注入原子，通過薄膜濺射出原子，在惰性氣氛中向基板上形成。

(3)化學(xué)氣相沉積:對選定的金屬化合物或有機(jī)化合物進(jìn)行熱分解，獲得沉積膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本質(zhì)上是真空蒸發(fā)鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，具有兩種工藝特點(diǎn)。各種涂裝方式的優(yōu)缺點(diǎn)如表6-9所示。