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鍍膜工藝中的鍍膜界表面預(yù)處理是為了什么？
我們都知道納米顆粒由于具有大的表面能，擁有自聚集效應(yīng)。在一個(gè)平坦的表面，表面堆積一層納米顆粒，隨著溫度的上升，一般可能會(huì)出現(xiàn)納米顆粒之間的聚集和相互作用。而后才與平坦表面發(fā)生作用。經(jīng)典測(cè)試表明，金屬之間的互擴(kuò)散需要達(dá)到材料熔點(diǎn)的80%。
利用陽(yáng)極層離子源在管道內(nèi)壁制備類(lèi)金剛石涂層
陽(yáng)極層離子源由于其簡(jiǎn)單性和將氣體轉(zhuǎn)變?yōu)殡x子束的能力而被廣泛研究，其主要功能是在使用期間360°范圍內(nèi)連續(xù)產(chǎn)生離子束。通過(guò)簡(jiǎn)單地沿著直管或彎管牽引離子源就可以實(shí)現(xiàn)管道內(nèi)壁涂層的制備。利用傳統(tǒng)的物理氣相沉積如直流/射頻磁控濺射和PLD方法制備的類(lèi)金剛石（DLC）涂層通常包含結(jié)構(gòu)缺陷，如針孔、孔洞和裂紋。
HiPMS利器新應(yīng)用-高熵合金薄膜制造
高熵合金氮化物薄膜是一種基于高熵合金設(shè)計(jì)理念的產(chǎn)物，在熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)上可以分別具有更低的吉布斯自由能和更小的元素?cái)U(kuò)散速率，抑制了金屬間化合物有序相的生成，促進(jìn)簡(jiǎn)單固溶體結(jié)構(gòu)甚至非晶相的形成。
高功率脈沖磁控濺射技術(shù)（上）
高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)，由Kouznetsov1等人于1999年提出，是在脈沖功率技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種極有前途的磁控濺射技術(shù)。
高功率脈沖磁控濺射技術(shù)簡(jiǎn)介（下）
在磁控濺射技術(shù)中，可以通過(guò)控制沉積參數(shù)的變化，轉(zhuǎn)移到成膜粒子的能量，從而調(diào)控薄膜性質(zhì)28。在為生長(zhǎng)膜提供能量的各種方法中，電離物質(zhì)的轟擊被廣泛使用29,30。
HiPIMS利器新應(yīng)用-高熵合金薄膜制造
高熵合金氮化物薄膜是一種基于高熵合金設(shè)計(jì)理念的產(chǎn)物，在熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)上可以分別具有更低的吉布斯自由能和更小的元素?cái)U(kuò)散速率，抑制了金屬間化合物有序相的生成，促進(jìn)簡(jiǎn)單固溶體結(jié)構(gòu)甚至非晶相的形成。
采用脈沖直流PECVD工藝在長(zhǎng)管內(nèi)沉積DLC膜層
管道作為一種流體運(yùn)輸工具，管道內(nèi)表面經(jīng)常暴露在復(fù)雜的介質(zhì)中。這些流體中存在的污染物或腐蝕性元素會(huì)導(dǎo)致管道內(nèi)壁腐蝕破損，每年都會(huì)造成巨大的經(jīng)濟(jì)損失。
