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HIPIMS脈沖磁控濺射的工作原理

脈沖磁控濺射是一種用矩形波電壓脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源的磁控濺射

真空鍍膜的方法有什么?

(1)真空蒸發(fā):將需要涂膜的基材清洗干凈,放入涂膜室。膜材料抽真空后加熱至高溫,使水蒸氣達(dá)到13.3Pa左右,水蒸氣分子飛到基板表面凝結(jié)成膜。

真空鍍膜的特點(diǎn)

真空鍍膜技術(shù)與濕法鍍膜技術(shù)相比,具有以下優(yōu)點(diǎn):

(1)膜材和基片材料選擇廣泛,膜厚可控制,可制備多種功能不同的功能膜。

真空鍍膜的分類

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩類,即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。

真空鍍膜原理是什么?

真空鍍膜原理:

1. 物理氣相沉積技術(shù)是指利用各種物理方法,在真空條件下汽化成原子和分子或電離成離子,將電鍍材料直接沉積在基材表面的方法。

真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域

真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域?隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高,人們喜歡將手表殼、表帶...

真空鍍膜玻璃的好處及用途

真空鍍膜玻璃的好處及用途 金屬PVD真空電鍍VS金屬化學(xué)鍍金屬PVD真空鍍膜具有結(jié)合力強(qiáng)、護(hù)色時(shí)間長(zhǎng)、耐磨性強(qiáng)等特點(diǎn)

真空鍍膜設(shè)備行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局及面臨的機(jī)遇挑戰(zhàn)

真空鍍膜設(shè)備行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局



真空鍍膜技術(shù)源于國(guó)外,憑借先發(fā)優(yōu)勢(shì)和大量投入的研發(fā)資金,國(guó)際企業(yè)在全球真空鍍膜設(shè)備開(kāi)發(fā)生產(chǎn)市場(chǎng)仍處于地位。在國(guó)際市場(chǎng)上,真空鍍膜設(shè)備市場(chǎng)主要由應(yīng)用材料公司占據(jù)。公司擁有雄厚的資金實(shí)力、技術(shù)水平和豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。