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真空鍍膜是什么

真空薄膜的制備，包括金屬、半導(dǎo)體、絕緣體和其他元素或復(fù)合薄膜。雖然化學(xué)氣相沉積也采用真空壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般的真空鍍膜是指通過(guò)物理方法沉積薄膜。真空鍍膜有蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜三種形式。