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2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室成功舉辦

12月14日,由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室以及等離子體放電團(tuán)隊(duì)孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室會(huì)議中心成功舉行。

2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行

12月14日,“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室舉辦。此次論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合舉辦,由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。

250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞,共探技術(shù)產(chǎn)業(yè)融合路徑

12月14日,來(lái)自高校、中國(guó)科學(xué)院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”,共同研討高能脈沖PVD(真空鍍膜)領(lǐng)域的研究成果和未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)。論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合舉辦。

2024大灣區(qū)高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦,引領(lǐng)行業(yè)前沿發(fā)展

2024年12月14日,備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實(shí)驗(yàn)室盛大召開(kāi)。
本次論壇匯聚了北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、中科院固體所、華南理工大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、澳門大學(xué)、香港城市大學(xué)、季華實(shí)驗(yàn)室以及華為、華星光電等250多位國(guó)內(nèi)該領(lǐng)域的專家、學(xué)者以及企業(yè)代表,共同探討高能脈沖PVD技術(shù)的進(jìn)展與未來(lái)趨勢(shì),為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。

真空鍍膜的工藝流程是什么

真空鍍膜是一種在材料表面形成薄膜的技術(shù),主要流程包括以下幾個(gè)關(guān)鍵步驟。

HiPIMS磁控濺射:材料制備的新趨勢(shì)

HiPIMS磁控濺射技術(shù)具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。與傳統(tǒng)磁控濺射相比,它能在高功率脈沖模式下運(yùn)行,產(chǎn)生高密度的等離子體。這使得濺射出來(lái)的原子或離子具有更高的能量和活性,在材料沉積過(guò)程中,可以更好地控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu)

hipims電源能否當(dāng)作偏壓電源使用

HIPIMS(高功率脈沖磁控濺射)電源在一定條件下可以當(dāng)作偏壓電源使用,但也存在一些限制。

真空鍍膜技術(shù)中,薄膜厚度的測(cè)量和控制是如何實(shí)現(xiàn)的?

這是一種常用的測(cè)量方法。其原理是基于光的干涉現(xiàn)象。當(dāng)一束光照射到薄膜表面時(shí),部分光被反射,部分光透過(guò)薄膜在基底和薄膜的界面再次反射,這兩束反射光會(huì)發(fā)生干涉。通過(guò)檢測(cè)干涉條紋的變化來(lái)確定薄膜的厚度。