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鍍膜電源一般應用在什么產品上

鍍膜電源是一種特殊的電源設備,廣泛應用于各種需要鍍膜的領域。以下是鍍膜電源主要應用的一些產品:
光學產品:鍍膜電源在光學產品制造中發(fā)揮著重要的作用。例如,眼鏡片、相機鏡頭、望遠鏡等都需要進行鍍膜處理以增強其光學性能。

鍍膜工藝技術分類和理論

鍍膜工藝技術分為真空蒸發(fā)鍍膜、電阻式蒸發(fā)鍍膜、電子束蒸發(fā)鍍膜等。
真空蒸發(fā)鍍膜是把待鍍膜的基片或工件置于高真空室內,通過加熱使成膜材料氣化(或升華)而淀積到基片或工件表面上,從而形成一層薄膜的工藝過程。

真空鍍膜技術入門概念

真空鍍膜技術是一種在真空中制備薄膜材料的技術,它是材料科學、物理學、化學和工程技術的交叉領域。以下是對真空鍍膜技術的一些基本概念的介紹:

HIPiMS技術高能磁控電源輸出線有什么注意事項?

 一、電源輸出線離腔體盡量近,電源線盡量短為了保證脈沖電流波形引入到真空腔體時波形不畸變,且衰減小。期望在系統(tǒng)中,脈沖電鍍電源與真空腔體的距離2-3m為佳,長線易對脈沖電流波形的上升、下降沿產生較大的影響,真空腔體打火時,滅弧效果有影響。二、正負極導線使用同軸線纜或者雙絞屏蔽脈沖電源的輸出銜接,導線間的電感效應越小越好。因而陰、陽極導線最好的辦法就是同軸無感線纜。

點擊關注,了解最前沿的真空應用技術,跟隨新鉑科技走向未來!

在展示區(qū)展出了新鉑等離子體鍍膜工藝成品與電源設備,讓參展的嘉賓與展商皆感嘆新鉑科技在真空應用領域技術實力!

耗散功率竟然能影響銅濺射等離子體的行為!

本文研究了在銅濺射等離子體中耗散功率對其影響的實驗結果。通過光發(fā)射光譜技術進行測量,探討了耗散功率對銅濺射等離子體的物理特性和行為的影響。
通過實驗結果發(fā)現(xiàn),耗散功率的增加導致銅濺射等離子體中的電子溫度和密度的增加。此外,還觀察到了濺射過程中的輻射特性和粒子輸運行為的變化。

管道結垢難題有解了!DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展!


在石油行業(yè),人們正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以將原油的生產效率提高10%~15%。然而,隨著石油產量的增加,也面臨著更多的挑戰(zhàn),管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率(EOR)技術,生產油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化,

一文讀懂濺射沉積技術

濺射鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊靶材表面,通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現(xiàn)大面積快速沉積,薄膜與基體結合力好,濺射密度高、針孔少,膜層可控性和重復性好等優(yōu)點,而且任何物質都可以進行濺射,因而近年來發(fā)展迅速,應用廣泛。