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增強(qiáng)了電子發(fā)射，進(jìn)而獲得高的等離子體密度，離化率高、沉積速率高，這將有助于增加膜層致密性、降低膜層應(yīng)力；可低溫沉積，降低工件的熱應(yīng)力，提高工件的壽命；

可抑制陰極弧靶中毒、改善膜層結(jié)構(gòu)、控制膜層顆粒污染；增加電弧穩(wěn)定性和提高靶材利用率；

新鉑新型脈沖陰極弧電源，實(shí)現(xiàn)了脈沖增強(qiáng)電子發(fā)射以提高真空室內(nèi)等離子體密度。該電源核心由脈沖發(fā)射和維持電流系統(tǒng)構(gòu)成，由單片機(jī)和觸摸屏系統(tǒng)協(xié)同控制和管理，具有滅弧檢測(cè)、自動(dòng)重啟，過流保護(hù)、過熱控制和故障檢測(cè)功能