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陰極弧技術是一種以離子為沉積來源的鍍膜技術。在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態(tài)，從而完成薄膜材料的沉積。其優(yōu)點具有高硬度、高致密性與高沉積速度等，也是硬質(zhì)薄膜制備方法中相當成熟且適合量產(chǎn)的技術，
0769-81001639
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